屠海令担任北京有色金属研究总院科技委员会主任,他能够从更高层面把控科研方向,指导和推动全院的科研工作,为培养科研人才和打造创新团队发挥了重要作用。
屠海令院士在不同阶段的从业经历,使他在科研能力、团队管理、国际合作、成果转化等方面不断提升和完善,这些都为他当选中国工程院院士奠定了坚实基础。
院士科研之路
屠海令院士是我国着名的电子材料专家,长期从事硅、化合物半导体,稀土半导体,硅基半导体等材料的研究工作。
屠海令院士主持研发的“2-3μm IC用φ5英寸硅单晶(片)”获得国家科学技术进步奖二等奖。
他主持研发成功的“6英寸重掺砷硅单晶及抛光片”获得北京市科学技术奖一等奖。
他主持研发成功的“重掺砷硅单晶及抛光片”获得国家科学技术进步奖二等奖。
这些成果提升了我国硅单晶材料的质量和性能,满足了集成电路等领域的需求。
屠海令院士在砷化镓等化合物半导体研究方面也有突出贡献。
他主持的“半绝缘砷化镓单晶”获得中国有色金属工业科学技术奖一等奖。
该技术推动了我国化合物半导体材料的发展,为相关光电器件和高频器件的研制提供了基础。
屠海令院士积极推动宽禁带半导体材料如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)的研发与应用,强调要做好顶层设计,加强全产业链和产业环境建设。
屠海令院士推动多方协同发展,以抢占下一代功率电子产业市场,促进新一代信息技术等领域的快速发展。
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根据2022年8月中国工程院网站显示,屠海令先后发表论文280多篇,出版着作9部。
如《新材料产业培育与发展研究报告》《新材料产业发展重大行动计划研究》等,为相关领域的研究和发展提供了理论支持和指导。
最后,屠海令院士领导并参加多项半导体材料国家工程及专项项目,形成了一系列具有自主知识产权的工程技术和规模化生产能力,推动了我国半导体材料产业的发展。
科研之路解码
屠海令院士的研究成果,在他当选院士过程中发挥了关键作用。
在半导体材料领域,他在硅单晶及抛光片、化合物半导体、宽禁带半导体材料等方面成果丰硕。
这些成果提升了我国半导体材料的质量和性能,满足了集成电路等领域需求,推动了相关产业发展,展示出卓越科研能力。
在学术着作与论文方面,他发表论文280多篇,出版着作9部,为行业提供了理论支持和指导,彰显了其学术影响力。
在科研项目与产业化方面,他领导并参加多项国家工程及专项项目,形成自主知识产权和规模化生产能力,推动产业发展,体现出强大的项目领导和产业推动能力。
以上这些成果综合起来,使他在行业内获得高度认可,最终成功当选为中国工程院院士。
后记
屠海令院士出生于北京西城区,该区优质教育资源与深厚文化底蕴为他提供了优质的启蒙教育。
屠海令院士在天津大学本科打下工科基础,培养了他的严谨学风;他在国内读研明确了专业方向;他在英国巴斯大学读博,拓宽了他的国际视野。
屠海令院士早期的基层实践,为他积累了丰富的实践经验;他在总院工作积累了丰富的管理经验。
科研上,屠海令院士在半导体材料多领域成果斐然,论文着作丰富。
以上这些因素相互交织,共同作用,最终使他成功当选为中国工程院院士。
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